鈣鈦礦液涂布機

              鈣鈦礦液涂布機



              詳情

                本設(shè)備是鈣鈦礦液涂布-真空-老化一體化設(shè)備。采用直線電機驅(qū)動載臺運動,狹縫式涂布系統(tǒng)上下運動,在載臺上的ITO/FTO導(dǎo)電玻璃平板上在一定距離進行精密涂布成形,在涂布后進入真空腔進行快速真空干燥成形鈣鈦礦膜片。

                技術(shù)要求和參數(shù):

                1.1 適用基板尺寸:最大可放置300mm×300mm的基材,帶真空吸附載臺;

                1.2 基板類型:ITO/FTO導(dǎo)電玻璃平板;

                2.1.1 涂布:日本制高精密產(chǎn)品用不銹鋼涂布頭;

                2.1.2  最大涂布面積300×300mm;

                2.1.3 涂頭高度可設(shè)定范圍 0-50mm;

                2.1.4  Z軸分辨率:0.0001mm;Y軸分辨率:0.001mm

                2.1.7 采用無接觸檢測方式,涂頭與平臺平面的平行度使用千分頭設(shè)置調(diào)整。(可選配電機調(diào)整方式)

                2.1.8  涂頭墊片厚度:0.05\0.08\0.1mm(可以定制)

                2.2.1 供液泵:精密微量泵;

                2.3.1帶有預(yù)涂、涂頭封合及余液收集功能;

                平臺材料:精密大理石平臺;

                傳輸裝置:Y 軸和Z 軸的自動控制和定位,重復(fù)精度≤2μm;

                平臺運動方式:采用無接觸的直驅(qū)電機驅(qū)動,無摩擦,穩(wěn)定性好。

                載臺采用特種合金材料或大理石;平整度:≤5μm;

                玻璃基板固定方式:真空吸附;

                配有涂后真空干燥腔。

                配有涂后老化加熱功能

                機體結(jié)構(gòu)采用封閉腔體,可隔離揮發(fā)氣體和控制環(huán)境

                操作系統(tǒng)采用工業(yè)控制系統(tǒng)控制;可實現(xiàn)數(shù)據(jù)采集和統(tǒng)計功能。

                

              關(guān)鍵詞:

              鈣鈦礦液涂布機

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